弊社は、年間5000萬個(gè)の高周波磁気デバイス（インダクタ）の生産ライン（敷地3.3萬㎡）を投資し、磁性材料基礎(chǔ)科學(xué)研究センター、超微細(xì)金屬粉末研究センター、金屬軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社（1萬㎡）の設(shè)立に120億円を投資することを決定した。
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弊社は、年間5000萬個(gè)の高周波磁気デバイス（インダクタ）の生産ライン（敷地3.3萬㎡）を投資し、磁性材料基礎(chǔ)科學(xué)研究センター、超微細(xì)金屬粉末研究センター、金屬軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社（1萬㎡）の設(shè)立に120億円を投資することを決定した。